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특허청 "EUV 노광기술 특허출원 분석...내국인 출원이 외국인 출원 건수 앞섰다"
작성일 : 2020-11-16 13:47:59
조회수 : 4,152
작성자 : 최고관리자
- 고성능･저전력 반도체를 제조하기 위해 광을 이용해 기판에 미세한 회로 패턴을 그리는 핵심 기술
- EUV 노광공정 및 마스크 분야에서 우리나라 기업･학계 선전, 4차 산업혁명과 함께 고성능･저전력 반도체 제조 위해 EUV 노광기술 중요
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